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型號:

高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV

描述:產(chǎn)品簡介:高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP爐、三通道混氣系統(tǒng)和高真空機組組成,可進行半導體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達3″)的退火,并采用10KW的紅外燈進行加熱,升溫速度可達120℃/s,配有RS485接口,可以通過控制軟件在計算機上控制運行并顯示溫度曲線

  • 廠商性質(zhì)

    經(jīng)銷商
  • 更新時間

    2024-03-12
  • 訪問量

    158
詳細介紹


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產(chǎn)品簡介: 高真空快速 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-4-RTP-C3HV 是由 4″RTP 爐、三通道混氣系統(tǒng)和高真空機組 組成,可進行半導體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達 3″ )的退火,并采用 10KW 的紅外燈進行加 熱,升溫速度可達 120/s,配有 RS485 接口,可以通過控制軟件在計算機上控制運行并顯示溫度曲線。


產(chǎn)品型號

高真空快速 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-4-RTP-C3HV

安裝條件

本設備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。


1、水:不需要


2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地


3、氣:設備腔室內(nèi)需充注氣體,需自備氣瓶氣源


4、工作臺: 尺寸 1600mm×600mm×700mm ,承重 150kg 以上


5、通風裝置:需要

主要特點

1 、雙層 Al2O3 纖維鋼構,無需水冷或風冷。


2、內(nèi)爐膛表面涂有進口高溫氧化鋁涂層,可以提高設備的加熱效率及延長儀器的使用壽命。


3 PID 控制器, 可以設置 30 段升降溫程序,并設有過熱保護和斷偶功能。


4 、已通過 CE 認證。

技術參數(shù)

1 、電源: 單相 208V-240V AC    50Hz/60Hz    10KW


2、石英管: 外徑 ?110mm ,內(nèi)徑 ?103mm ,長 380mm


3、加熱元件: 8 根紅外燈管, 燈絲長 200mm ,絲圈 ?10mm ,燈長 300mm





4、加熱區(qū): 300mm


5 、工作溫度: 溫度 1100


6 、控溫精度:±0.5


7、升溫速度: RT-800℃時為 50/s ,800-1000℃時為 10/s


8、溫控儀:可控硅( SCRPID 自動控制


9 、真空法蘭: 不銹鋼,帶有水冷接口和針閥,雙層高溫 O 型圈密封,長時間在>900℃條件下 運行必須采用水冷, 循環(huán)水流量為 0.5m3/hr

10、真空度: 10-2torr (機械泵), 10-5torr  (分子泵)


11 、質(zhì)量流量計: 3 個, MFC1 范圍0-100sccm MFC2 范圍0-200sccm ,MFC3 范圍0-500sccm, 精度 1±%FS

12、混氣罐: ?80mm×120mm

產(chǎn)品規(guī)格

尺寸: 爐體 760mm×330mm×530mm ,真空混氣系統(tǒng) 600mm×600mm×597mm


重量: 爐體 45kg ,真空混氣系統(tǒng) 75kg


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